金融界2024年10月25日消息,国家知识产权局信息显示,福建中伟半导体材料有限公司取得一项名为“一种高效清洗设备”的专利,授权公告号CN 221861589 U,申请日期为2023年12月。
专利摘要显示,本实用新型涉及清洗技术领域,且公开了一种高效清洗设备,包括水槽,水槽的顶部设有支撑框,支撑框的顶部设有电机,电机的一侧喷水装置,支撑框的一端吹风装置,支撑框的顶部内壁上设置有间歇转动装置,水槽的上端设有吊杆,吊杆的一侧设有放置器,该实用新型可以一次对多片晶圆进行清洗,并且在清Ag真人国际平台洗后直接进行烘干,避免费时费力,同时避免晶圆在多次转移时发生损坏,提高清洗效率。
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
《再见爱人3》嘉宾傅首尔首谈麦琳:看不出李行亮有多爱,麦琳不是一个人,而是一群人
前实习生遭字节跳动起诉,线万块GPU数据中心 马斯克为打败OpenAI竭尽全力
《编码物候》展览开幕 北京时代美术馆以科学艺术解读数字与生物交织的宇宙节律
红米K80对手突然官宣:7000mAh+1.5K分辨率,价格也已清晰!
iQOO Neo10系列发布前瞻:外观、屏幕、配置、影像、价格都清晰了